三星斷貨EUV不只為了陰台積電 韓媒爆還有這目的

為搶奪龐大的半導體市場商機,南韓三星電子檯面下動作頻頻,除了先前傳出擬以斷貨極紫外光微影設備(EUV)手段,阻礙晶圓代工對手台積電的先進製程量產進度外,今(29)日韓媒又報導,三星計畫將EUV機台導入10奈米的DRAM產線,預訂2019年量產,以解決生產瓶頸,並拉開與競爭同業距離。

半導體大廠搶進先進製程,尤以10奈米以下必須導入波長只有13.5奈米的極紫外光(EUV),才能降低晶圓製造的光罩數,縮短晶片製程流程。由於要價1.5億美元(折合新台幣約45億元)的EUV設備,目前只有艾司摩爾(ASML)獨家供應,先前韓媒曾報導三星擬訂下ASML近9成機台,以阻礙台積電等廠的量產進度。

根據《BusinessKorea》引述業界人士消息指出,考量現有ArF浸潤式製程,不易將DRAM微縮至10奈米,三星計畫在南韓華城廠增建EUV專用的DRAM產線,裝設4至8台EUV設備以解決生產瓶頸,最快下個月開始動工,2019年正式啟用。不過,10奈米生產速度較慢,這些產線能否獲利仍有變數存在。

三星是全球DRAM霸主,今年第3季在行動裝置、伺服器的市佔率分別達58.3%、45.9%,2016年下半年首先量產18奈米DRAM,今年下半年將推進至15奈米,製程領先對手1至2年。雖然導入EUV仍有幾項缺點,但專家認為三星仍會考慮以EUV生產10奈米DRAM,以維持市場龍頭寶座。

中時電子報 盧宏奇

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